スイスEulitha社製ナノパターン露光装置の販売代理店契約締結のお知らせ

スイスEulitha社製ナノパターン露光装置の販売代理店契約締結のお知らせ

2017年06月16日

このたび弊社では、Eulitha社(スイス)と、ナノパターン露光装置 Phabler100の販売・サポートの代理店契約を締結いたしました。
同社のナノパターン露光装置 Phabler100は独自の「タルボ効果」"Displacement Talbot Lithography (DLT) technique"により、周期パターン(Linear Grating、Square Lattice, Hexagonal Lattice等)を、ローコストでハーフピッチ65nmレベルの一括露光を実現する装置です。
ナノオーダーの(周期)パターン寸法が要求される、DBFレーザー、DBRレーザー、Nanowire LED、Solar cells、Encoders: radial and linear、Nanoparticle production、Nano-structured filters等の市場にPhabler100の拡販を進めてまいります。
なにとぞ倍旧のご支援を賜りますようお願い申し上げます。


【企業名】Eulitha社:本社 スイス、チューリッヒ url:http://www.eulitha.com/
【Phabler100の特徴】
①高解像度: 300nm ピッチ以下
②DUV光源でハーフピッチ65nm(L/S)を実現
③フルフィールド露光
④ノンコンタクト:マスクのダメージ、コンタミからの保護
⑤実質的にDOFに制限がありません
⑥ノンフラット基板に強い
⑦高い露光均一性
⑧重ね合わせ機能
⑨汎用フォトレジスト、マスクを使用
⑩汎用マスク使用
⑪マスク寸法に対して2倍の分解能のパターニングを実現
⑫対応ウエハサイズ:4"、6"、(8")

PhableR 100 @.jpg

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